万向主管怎么联系主页“『UED在线注册』，1、镀膜玻璃也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足特定的应用要求。镀膜玻璃按产品特性的不同，主要可以分为：低辐射镀膜玻璃（low-e）、热反射镀膜玻璃、导电镀膜玻璃等。

　　2、低辐射镀膜玻璃，也叫low-e镀膜玻璃，是指在玻璃表面镀上多层具有低表面辐射率的金属或其他化合物膜层，而制得的具有低辐射性能的特种玻璃。low-e镀膜玻璃是一种绿色、节能、环保的玻璃产品。现有的普通玻璃的表面辐射率在0.84左右，而低辐射镀膜玻璃的表面辐射率能够达到0.25以下。

　　3、低辐射镀膜玻璃表面具有的不到头发丝百分之一厚度的低辐射膜层对远红外热辐射的反射率很高，能将大部分的远红外热辐射反射回去，进而实现隔热效果。相比于普通的透明浮法玻璃、吸热玻璃，其远红外反射率一般仅在12％左右，低辐射镀膜玻璃具有良好的阻隔热辐射透过、隔热作用。同时，低辐射镀膜玻璃一般还具有较低的传热系数，能够在反射外部远红外热辐射的同时，防止内部热量的散失，进而实现低辐射镀膜玻璃的保温作用。

　　4、在冬季时，低辐射镀膜玻璃对室内暖气及室内物体散发的热辐射，可以像一面热反射镜一样，将绝大部分热辐射反射回室内，同时结合其良好的低传热性能，保证室内热量不向室外散失，进而节约取暖费用。在夏季时，低辐射镀膜玻璃可以阻止室外太阳、地面、建筑物等发出的热辐射进入室内，同时结合其良好的传热性能，进而节约空调制冷费用。并且，低辐射镀膜玻璃的可见光反射率一般在15％以下，与普通白玻相近，能够有效可避免因光线反射造成的光污染。

　　5、根据低辐射镀膜玻璃的制造工艺，可分为在线低辐射镀膜玻璃和离线低辐射镀膜玻璃，现有技术中的低辐射镀膜玻璃，多是采用磁控溅射镀膜技术，在玻璃基板上依次镀覆包括有单银层或双银层在内的多个功能性膜层后制备而成。

　　6、但是，现有低辐射镀膜玻璃的可见光透过性能、可见光反射性能、远红外光透过性能、远红外光反射性能，与低辐射镀膜玻璃的传热系数存在矛盾关系，无法在降低低辐射镀膜玻璃的传热系数的同时，同步改善低辐射镀膜玻璃的可见光透过性能、可见光反射性能、远红外光透过性能、远红外光反射性能。

　　7、进一步的，发明人发现，具有双银层结构的低辐射镀膜玻璃在制备过程中，存在有膜层厚度不均的问题；并且膜层与玻璃基板之间、各膜层之间的相容性不理想，膜层牢固度不佳，在对低辐射镀膜玻璃的后续加工、储运、架设、应用过程中，存在有脱模或膜层破损等问题。同时，低辐射镀膜玻璃的稳定性、耐候性也有待进一步提高。

　　1、为解决现有技术中存在的技术问题，本发明提供一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法，能够在降低低辐射镀膜玻璃的传热系数的同时，同步改善低辐射镀膜玻璃的可见光透过性能、可见光反射性能、远红外光透过性能、远红外光反射性能；并且低辐射镀膜玻璃的膜层厚度均匀，膜层与玻璃基板之间、各膜层之间的相容性好，膜层牢固度好；以及，进一步提高低辐射镀膜玻璃的稳定性和耐候性。

　　3、一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法，由以下步骤组成：一次处理、二次处理、膜层镀覆、后处理。

　　4、所述一次处理的方法为，采用去离子水清洗玻璃基板2-3次后，30-35℃风刀干燥，获得洁净玻璃基板；然后将洁净玻璃基板置于密闭的处理仓内，向洁净玻璃基板均匀喷淋温度为35-45℃的一次处理液；一次处理液喷淋完成后，以2-3℃/min的升温速率，控制处理仓升温至150-160℃，保温15-30min，自然冷却至常温，取出玻璃基板并采用去离子水清洗玻璃基板，干燥，获得一次处理基板。

　　5、所述一次处理中，一次处理液为硅烷偶联剂kh-550的去离子水溶液；一次处理液中，硅烷偶联剂kh-550的浓度为0.7-0.8wt%；

　　7、所述二次处理的方法为，在氩气气氛环境下，对一次处理基板进行等离子体处理，控制等离子体放电电压为12-13kv，放电频率为28-30khz；并控制一次处理基板与等离子体处理设备喷头的距离为8-10mm，一次处理基板相对于等离子体处理设备喷头的行进速度为0.1-0.15m/s；完成二次处理，获得二次处理基板。

　　8、所述膜层镀覆的方法为，在二次处理基板表面依次镀覆tin层、第一nicr层、第一ag层、第二nicr层、第一znalo层、sial层、第三nicr层、第二ag层、第四nicr层、第二znalo层、sin层，获得镀膜玻璃基板。

　　9、进一步的，镀覆tin层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用交流中频电源，以氩气为溅射气体，氮气为反应气体，溅射钛靶材，在二次处理基板表面镀覆tin层；并控制tin层厚度为50-60nm，获得镀覆有tin层的玻璃基板；

　　11、镀覆第一nicr层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射镍铬合金靶材，在镀覆有tin层的玻璃基板表面镀覆第一nicr层；并控制第一nicr层厚度为2-3nm，获得镀覆有第一nicr层的玻璃基板；

　　13、镀覆第一ag层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射银靶材，在镀覆有第一nicr层的玻璃基板表面镀覆第一ag层；并控制第一ag层厚度为8-10nm，获得镀覆有第一ag层的玻璃基板；

　　15、镀覆第二nicr层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射镍铬合金靶材，在镀覆有第一ag层的玻璃基板表面镀覆第二nicr层；并控制第二nicr层厚度为2-3nm，获得镀覆有第二nicr层的玻璃基板；

　　17、镀覆第一znalo层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用交流中频电源，以氩气为溅射气体，氧气为反应气体，溅射锌铝合金靶材，在镀覆有第二nicr层的玻璃基板表面镀覆第一znalo层；并控制第一znalo层厚度为13-16nm，获得镀覆有第一znalo层的玻璃基板；

　　19、镀覆sial层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用交流中频电源，以氩气为溅射气体，氮气为反应气体，溅射铝硅合金靶材（si含量30-32wt%），在镀覆有第一znalo层的玻璃基板表面镀覆sial层；并控制sial层厚度为55-65nm，获得镀覆有sial层的玻璃基板；

　　21、镀覆第三nicr层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射镍铬合金靶材，在镀覆有sial层的玻璃基板表面镀覆第三nicr层；并控制第三nicr层厚度为2-3nm，获得镀覆有第三nicr层的玻璃基板；

　　23、镀覆第二ag层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射银靶材，在镀覆有第三nicr层的玻璃基板表面镀覆第二ag层；并控制第二ag层厚度为8-10nm，获得镀覆有第二ag层的玻璃基板；

　　25、镀覆第四nicr层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用直流电源，以氩气为溅射气体，溅射镍铬合金靶材，在镀覆有第二ag层的玻璃基板表面镀覆第四nicr层；并控制第四nicr层厚度为2-3nm，获得镀覆有第四nicr层的玻璃基板；

　　27、镀覆第二znalo层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用交流中频电源，以氩气为溅射气体，氧气为反应气体，溅射锌铝合金靶材，在镀覆有第四nicr层的玻璃基板表面镀覆第二znalo层；并控制第二znalo层厚度为13-16nm，获得镀覆有第二znalo层的玻璃基板；

　　29、镀覆sin层的方法为，通过磁控溅射镀膜工艺，采用交流中频电源，以氩气为溅射气体，氮气为反应气体，溅射硅靶材，在镀覆有第二znalo层的玻璃基板表面镀覆sin层；并控制sin层厚度为40-50nm，获得镀膜玻璃基板；

　　31、所述后处理的方法为，将镀膜玻璃基板置于刮刀涂层装置内，控制刮刀刮涂厚度为300-350μm，将涂层剂均匀刮涂于镀膜玻璃基板表面，然后置于温度为20-25℃，相对湿度为35-40%环境中，静置120-130h，干燥，制得低辐射镀膜玻璃。

　　32、所述后处理中，涂层剂采用以下方法制得：将聚甲基丙烯酸甲酯粉末、钛酸酯偶联剂201、1,2-二氨基环己烷、改性聚醚硅油投入至四氢呋喃中，搅拌至完全溶解后，搅拌升温至55-60℃，保温回流搅拌1-1.5h后，继续投入纳米二氧化硅、纳米二氧化钛，超声分散均匀，55-60℃保温回流搅拌1-1.5h，获得混合液；将混合液与去离子水按10-11:1的重量份比值混合均匀，升温至40-50℃，保温搅拌2-3h，制得涂层剂。

　　33、涂层剂的制备中，聚甲基丙烯酸甲酯粉末、钛酸酯偶联剂201、1,2-二氨基环己烷、改性聚醚硅油、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛、四氢呋喃的重量份比值为30-32:0.9-1.1:6-7:5-6:3-3.2:1.5-2:250-270。

　　34、涂层剂的制备中，改性聚醚硅油采用以下方法制得：将聚醚硅油和乙醇溶液（体积浓度80-85%）混合均匀，升温至45-55℃，保温；在搅拌条件下，以0.1-0.15ml/min的滴加速率，同时滴入硅烷偶联剂kh-580和硅烷偶联剂kh-590，滴加完成后，继续保温搅拌1-2h，真空蒸除乙醇，制得改性聚醚硅油。

　　39、（1）本发明的低辐射镀膜玻璃的制备方法，通过在一次处理中，采用一次处理液对洁净玻璃基板进行喷淋及水热处理；在二次处理中，对一次处理基板进行等离子体处理；在膜层镀覆中，将特定顺序及厚度的膜层结合；在后处理中，采用涂层剂对镀膜玻璃基板进行处理，能够在降低低辐射镀膜玻璃的传热系数的同时，同步改善低辐射镀膜玻璃的可见光透过性能、可见光反射性能、远红外光透过性能、远红外光反射性能；并且低辐射镀膜玻璃的膜层厚度均匀，膜层与玻璃基板之间、各膜层之间的相容性好，膜层牢固度好；以及，进一步提高低辐射镀膜玻璃的稳定性和耐候性。

　　41、（3）经检测，本发明的低辐射镀膜玻璃的膜层厚度与工艺控制膜层厚度的偏差率为0.38-0.42%，膜层厚度均匀，膜层之间的相容性好，膜层结合牢固。

　　42、（4）经检测，本发明的低辐射镀膜玻璃经多次-20℃至60℃的变温过程后，可见光透过率为82.1-83.1%，远红外光反射率为48.1-48.7%，冬季夜晚传热系数u为1.62-1.66w/（m2·k），夏季白天传热系数u为1.63-1.67w/（m2·k），辐射率为0.05-0.06%，膜层无脱落、无破损情况发生。

　　43、（5）经检测，本发明的低辐射镀膜玻璃经磨耗后的可见光透过率为81.1-82.5%，磨耗后膜层无脱落；酸处理后可见光透过率为81.2-82.9%，膜层无脱落、无破损；碱处理后可见光透过率为81.3-82.8%，膜层无脱落、无破损。

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